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Ingeniería
Nuevo Método de Litografía Optica
1 de Diciembre de 2008.
 Unos
ingenieros de la Universidad de California en Berkeley han dado a
conocer una nueva forma de crear chips de ordenador que podría
revitalizar la litografía óptica, una técnica de impresión de patrones
que domina la fabricación de los circuitos integrados modernos.
 Menéame
Combinando lentes metálicas que enfocan la luz a través de excitación de
electrones, o plasmones, en la superficie de las lentes con un cabezal
comparable en ciertos aspectos a la aguja de un tocadiscos de vinilo, y
que también presenta similitudes con los cabezales lectores de los
discos duros de ordenador, los investigadores fueron capaces de crear
patrones de líneas de sólo 80 nanómetros de ancho a velocidades de hasta
12 metros por segundo, con posibilidades de trabajar con detalles de
mayor resolución en un futuro cercano.
Utilizando esta nanolitografía plasmónica, será posible hacer 10 veces
más pequeños y mucho más potentes a los microprocesadores actuales. Esta
tecnología también podría conducir a discos de densidad ultraelevada
capaces de almacenar de 10 a 100 veces más información que los discos
actuales.
Xiang Zhang, profesor de ingeniería mecánica de la Universidad de
California en Berkeley y jefe del equipo de investigación que está
detrás de esta nueva idea, trabajó conjuntamente en el proyecto con
David Bogy de la misma universidad y especialidad.
El proceso de litografía óptica comparte algunos de los mismos
principios de la fotografía de película, la cual crea imágenes
exponiendo a la luz la película en una cámara, y revelando entonces
dicha película con soluciones químicas. En la industria de los
semiconductores, la litografía óptica es un proceso en el cual se
transfiere la luz a través de una máscara con el patrón de circuito
deseado sobre un material fotosensible, o fotorresistente, que reacciona
químicamente cuando es expuesto. El material entonces pasa a través de
una serie de baños químicos para grabar el diseño de circuito sobre una
oblea.
Con la litografía óptica, o fotolitografía, se puede llevar a cabo una
proyección instantánea del diseño de un circuito complejo sobre una
oblea de silicio. Sin embargo, la resolución máxima posible con esta
técnica está limitada por la naturaleza de la luz. Para obtener detalles
de menor tamaño, se deben utilizar longitudes de onda más y más
pequeñas, lo que incrementa de manera notable el costo de fabricación.
Además, la luz tiene un límite de difracción que restringe el grado de
miniaturización del espacio sobre el que se puede enfocar la luz.
Actualmente, el detalle de menor tamaño con fotolitografía convencional
es de cerca de 35 nanómetros, pero la nueva técnica es capaz de lograr
una resolución mucho mayor a un costo relativamente pequeño.
Información adicional en:
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